单靶磁控溅射镀膜机在太阳能选择性吸收膜层的发展中，最先实现大规模生产的是渐变集热膜。它由单靶磁控溅射镀膜机制备。
   单靶磁控溅射镀膜机是一种立式圆形罐体前开门结构的设备，设备内径φ700mm，一根直径φ70mm磁控溅射铝靶安装在罐体的圆心位置，镀膜过程中支杆围绕着中心的柱状靶进行公转，支杆公转的同时进行自转。
  单靶磁控溅射镀膜机的真空系统由一台K500扩散真空泵和一台2X-70型机械真空泵组成。K500扩散真空泵是真空系统的主泵，2X-70型机械真空泵既是整个真空系统的预抽泵，又是扩散真空泵的前级泵，可以通过电磁阀进行切换。磁控溅射靶是转靶芯的360°溅射靶，该靶芯安装三条磁铁，形成三组各自独立的辉光跑道。单靶磁控溅射镀膜机的镀膜玻璃管直径是φ37mm，每炉可生产30支。
 单靶镀膜机使用的工艺是渐变集热膜工艺，膜层结构是Al/AlN-1/AlN-2/AlN-3/AlN，金属层是金属Al，吸收层AlN-1、AlN-2和AlN-3是金属含量逐渐降低的铝氮铝陶瓷，减反层是AlN陶瓷。
  其中，金属层用磁控溅射的金属态溅射模式制备，吸收层和减反层是用反应溅射模式制备。单靶镀膜机的优点是仅用一支靶就可以完成整个太阳能选择性吸收涂层的制备。
  然而在实际应用中，由于渐变集热膜的膜层反射曲线不陡峭，随着温度的升高，膜层发射比会急剧上升，导致集热管热损升高，不能为人们提供高品质的生活热水。。